成果简介
本成果提供了一种超硬非晶碳薄膜的制备装置和工艺，即为ta-c薄膜制备技术。衡量金刚石薄膜质量的方法主要是看其SP3结构含量，含量越高，其性质越接近天然金刚石，如何得到高含量的SP3键是科学家们研究的重点。而目前国际上制备的金刚石薄膜以ta-c的SP3含量最高，可以达到85%以上，因此其性质最接近天然金刚石。
本项目目前达到的水平为：SP3结构达到87%，薄膜硬度HV≥85Gpa，平整度0.2nm，摩擦系数≤0.08，紫外吸收97%以上。
技术特点：
1．该技术与市场现有的部分硬质镀膜技术的比较该膜层可沉积在金属、陶瓷和介电材料等基体上，膜厚可从几纳米到几微米，均匀度误差达±1%，是目前其它方法无法达到的。采用该方法镀制的膜层，其硬度和耐磨性能高于其它方法。
2．该技术达到的主要技术指标
（1）装置的技术水平达到国际先进制备的薄膜均匀，重复性好、工艺稳定；
（2）制备的非晶碳薄膜SP3结构超过85%以上，摩擦系数小于0.1以下，并可达到沉积工作条件为常温（80ºC）以下；
（3）可以根据不同基体设计不同涂层组合的复合涂层结构，并具有良好的附着力、耐磨损、摩擦系数小的良好特性；
（4）镀膜的均匀性在1%。
应用领域
本成果在实验和设备工艺方面具有丰富的实践经验和很高的造诣，已实现ta-c的部分工业产品的产业化生产，主要可应用于工业、医疗、切削刀具等领域。
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